اکسید قلع ایندیوم

اکسید قلع ایندیم (ITO) یک اکسید رسانای شفاف است که به دلیل خواص منحصر به فردش در صنایع مختلف کاربرد فراوانی دارد. این مخلوطی از اکسید ایندیم و اکسید قلع به نسبت های مختلف است، معمولاً با نسبت 90:10 یا 95:5. ITO یک ماده شفاف و بی رنگ با رسانایی الکتریکی بالا است و از نظر نوری در محدوده مرئی طیف الکترومغناطیسی شفاف است.

امکانات:

ویژگی های اولیه ITO شامل هدایت الکتریکی بالا، شفافیت نوری و پایداری مکانیکی و شیمیایی عالی است. این یک رسانای عالی الکتریسیته است و می تواند برای ایجاد پوشش های رسانای شفاف برای طیف گسترده ای از کاربردها استفاده شود. ITO همچنین دارای پایداری حرارتی عالی است که آن را برای استفاده در کاربردهای با دمای بالا مناسب می کند.

درجات:

ITO بسته به کاربرد در گریدهای مختلف موجود است. رایج ترین گریدها ITO با خلوص بالا، نانو ITO و ITO با مقاومت کم هستند. ITO با خلوص بالا برای برنامه هایی استفاده می شود که به شفافیت بالا نیاز دارند، در حالی که نانو ITO برای برنامه هایی که نیاز به رسانایی بالا دارند استفاده می شود. ITO با مقاومت کم برای کاربردهایی که نیاز به رسانایی بالا و مقاومت کم دارند استفاده می شود.

تشکیل می دهد:

ITO در اشکال مختلف از جمله لایه های نازک، اهداف کندوپاش و پودر موجود است. لایه‌های نازک رایج‌ترین شکل مورد استفاده ITO هستند و برای کاربردهایی مانند صفحه‌نمایش لمسی و صفحه‌نمایش تخت استفاده می‌شوند. اهداف کندوپاش برای تولید پوشش های ITO روی شیشه و سایر بسترها استفاده می شود. پودر ITO برای کاربردهایی که نیاز به ایجاد پوشش های سفارشی دارند استفاده می شود.

مشخصات فیلم های نازک ITO:

● ضخامت: ضخامت لایه های نازک ITO بسته به کاربرد متفاوت است، اما معمولاً از چند نانومتر تا چند میکرومتر متغیر است.

● مقاومت ورق: مقاومت ورق لایه‌های نازک ITO معمولاً در محدوده 10-500 اهم/مربع است.

● انتقال نوری: لایه های نازک ITO شفافیت نوری بالایی در محدوده مرئی طیف الکترومغناطیسی دارند، معمولاً بالای 80 درصد.

مشخصات اهداف Sputtering ITO:

● خلوص: اهداف کندوپاش ITO در درجه های خلوص بالا از 99.9 درصد تا 99.999 درصد خلوص موجود هستند.

● شکل و اندازه: اهداف کندوپاش ITO در اشکال و اندازه های مختلف از جمله دیسک، صفحات مستطیلی و اشکال سفارشی موجود هستند.

● چگالی: چگالی اهداف کندوپاش ITO معمولاً بین 6.6 تا 7.2 گرم بر سانتی متر مکعب است.

مشخصات پودر ITO:

● خلوص: پودر ITO در درجه های خلوص بالا از 99.9 درصد تا 99.999 درصد خلوص موجود است.

● اندازه ذرات: پودر ITO در اندازه‌های ذرات مختلف موجود است که معمولاً بین 0.۵ تا ۵ میکرون است.

● سطح ویژه: سطح ویژه پودر ITO معمولاً در محدوده 5 تا 50 متر مربع بر گرم است.

روش تولید:

ITO معمولاً با کندوپاش یا تبخیر پرتو الکترونی تولید می شود. در کندوپاش، هدف ساخته شده از ایندیم و قلع با یون بمباران می‌شود و اتم‌هایی آزاد می‌شوند که روی یک بستر رسوب می‌کنند و یک لایه ITO تشکیل می‌دهند. در تبخیر پرتو الکترونی، یک هدف گرم شده و در خلاء تبخیر می‌شود و بخار حاصل بر روی یک بستر رسوب می‌کند تا یک فیلم ITO تشکیل دهد.

کاربردها و صنایع مرتبط:

ITO در طیف گسترده ای از برنامه ها از جمله صفحه نمایش لمسی، صفحه نمایش صفحه تخت، سلول های خورشیدی و دستگاه های الکترونیکی استفاده می شود. همچنین در صنعت خودروسازی برای ضد یخ زدایی و یخ زدایی شیشه ها استفاده می شود. سایر صنایعی که از ITO استفاده می کنند عبارتند از هوافضا، ارتش و مخابرات.

اطلاعات بهداشتی و ایمنی:

کار با ITO به طور کلی ایمن است، اما رعایت احتیاط های ایمنی مناسب هنگام کار با آن مهم است. استفاده از دستکش، روپوش آزمایشگاهی و عینک ایمنی هنگام کار با ITO توصیه می شود. علاوه بر این، ITO باید در یک منطقه با تهویه مناسب استفاده شود تا از استنشاق گرد و غبار جلوگیری شود.

مزایای ما:

ما تولید کننده پیشرو ITO هستیم و محصول ما از بالاترین کیفیت برخوردار است. ما از آخرین تکنیک های تولید استفاده می کنیم تا اطمینان حاصل کنیم که ITO ما از نظر کیفیت و خلوص سازگار است. علاوه بر این، ما تیمی از متخصصان با تجربه داریم که به ارائه بهترین خدمات و پشتیبانی به مشتریان خود اختصاص دارند.

سوالات متداول:

س: ضخامت لایه های نازک ITO چقدر است؟

پاسخ: ضخامت لایه های نازک ITO بسته به کاربرد متفاوت است اما معمولاً از چند نانومتر تا چند میکرومتر متغیر است.

س: ضریب شکست ITO چیست؟

پاسخ: ضریب شکست ITO تقریباً 2 است.{1}} در محدوده مرئی طیف الکترومغناطیسی.

س: آیا می توان پوشش های ITO را طرح دار کرد؟

پاسخ: بله، پوشش های ITO را می توان با استفاده از تکنیک های مختلف مانند فتولیتوگرافی و اچینگ الگوسازی کرد.

س: تفاوت بین کندوپاش و تبخیر پرتو الکترونی چیست؟

پاسخ: کندوپاش شامل بمباران یک هدف با یون است، در حالی که تبخیر پرتو الکترونی شامل گرم کردن یک هدف و تبخیر مواد در خلاء است. هر دو روش برای رسوب لایه های نازک بر روی یک بستر استفاده می شود.

تگ های محبوب: اکسید قلع ایندیم، چین، تامین کنندگان، خرید، فروش، ساخت چین